OTL-PECVD-1200PECVD System, bestehend aus OTL1200 Vakuumrohrofen, Quarzvakuumkammer, HF-Stromversorgung, GX-Gasversorgungssystem, Pumpsystem, Vakuummessystem.

Hauptmerkmale:

1, das Gas im Quarzvakuumkammer durch die HF-Stromversorgung in den Ionenzustand umwandeln.

PECVD hat eine niedrigere Temperatur als ein normales CVD, das für die Ablagerung chemischer Gase erforderlich ist.

3. Die Spannungsgröße des abgesetzten Films kann durch die Frequenz der HF-Stromversorgung gesteuert werden.

4, PECVD als normales CVD für eine hohe chemische Gasphase-Ablagerungsrate, eine gute Gleichmäßigkeit, Konsistenz und hohe Stabilität.

5, weit verbreitet in: Wachstum verschiedener Dünnfolien, wie: SiOx, SiNx, SiOxNy und amorphoses Silizium (a-Si: H).

OTL-PECVD-1200 PECVD-System mit schwedischem Kanthal-Widerstandsdraht als Heizelement, mit einer doppelschichtigen Gehäusestruktur und einem 30-abschnittigen Programmtemperaturmessgerät, Phasenverschiebungsauslöser, kontrollierbarer Siliziumstreibung, der Ofen ist aus polykristallinen Aluminiumoxidfasermaterialien hergestellt, die beiden Enden des Ofenrohres können Edelstahlflansche versiegelt werden, der Edelstahlflansch ist mit einer Luftmühle, einem Ventil und einem Druckmesser installiert, der Vakuumgehalt kann bei der Pumpe 10-3 Pa erreichen, mit Temperaturfeldausgleich, niedriger Oberflächentemperatur, schneller Temperaturerhöhung, Energieeinsparung, günstigen Preisen und anderen Vorteilen.

(3), Widerstandsgleichgewicht, gute Temperaturfeldgleichgewicht

(4), Heizelement: Schweden Kanthal A1 Import Widerstandsdraht (Widerstandsdraht kann 2 Jahre Garantie versprechen)

Wenn die Schaltung überstromt oder leckt, wird die Leeröffnung automatisch getrennt

Der Ofen ist mit einer Kommunikationsschnittstelle und Software ausgestattet, kann die verschiedenen Parameter des Ofens direkt über den Computer steuern und den Betrieb der PV- und SV-Temperaturwerte und -messgeräte auf dem Ofen beobachten. Der Computer der tatsächlichen Erwärmungskurve des Ofens wird in Echtzeit gezeichnet und kann die Temperaturdaten von jedem Moment speichern.

(2) Einführung japanischer Technologie.

(3) Der Abstand und der Abstand des Widerstandsdrahts im Ofen sind alle nach der besten japanischen Thermoechniktechnologie angeordnet und durch Thermoechnikssoftware simuliert.

(4) 4 Wochen Heizung, ausgewogener Temperaturfeld

(Alle importierten Geräte sind UL zertifiziert)